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ヘルスケア事業 ファインテック®

製造設備

開発用プラントの主要設備と仕様

小野田工場(山口県)

機器 容量 材質 基数 温度(℃) 備考
反応槽 100L GL 1 -15~130
200L テフロン 1 -15~130
300L テフロン 1 -15~80
500L GL 2 -15~130
1,000L SUS316L 1 -15~100
1,000L GL 1 -15~130
2,000L テフロン 1 -15~130
2,500L テフロン 1 -15~130
低温反応槽 20L GL 1 -80~60
40L SUS304 1 -80~60
100L GL 1 -80~30
200L GL 1 -80~30
500L SUS316L, GL 2 -80~30
加圧反応槽 100L GL 1 -15~130 0.98MPa
500L GL 1 -15~130 0.98MPa
晶析槽 10L GL 1 -15~130
100L テフロン 1 -15~130
500L テフロン, GL 2 -15~130
1,000L GL 1 -15~130
2,500L テフロン 1 -15~130
加圧ろ過器 5L
(0.03m2)
SUS304 1 RT 0.2MPa
20L
(0.1m2)
テフロン 2 RT 0.2MPa
50L
(0.1m2)
GL 1 -15~80 0.2MPa
200L
(0.4m2)
GL 1 -15~80 0.2MPa
200L
(0.4m2)
GL 1 -15~80 0.2MPa
1200L
(1m2)
GL 1 -15~80 0.2MPa
ろ過乾燥機 1000L
(1m2)
ハステロイC 1 -15~80 FV~0.2MPa
2500L
(2m2)
SUS316L 1 -15~80 FV~0.2MPa
カラム
精製装置
200mmID
×
1,000mmL
SUS316 2 RT 1.5MPa
450mmID
×
1,000mmID
SUS316 1 RT 1MPa
600mmID
×
1,000mmL
SUS316 1 RT 1.5MPa
600mmID
×
1,500mmL
SUS316 3 0~40 3MPa
800mmID
×
2,500mmID
SUS316 1 RT 1MPa
その他
保有設備
・薄膜濃縮器 GL 3
・Evaporator 20L GL 3
・Wall Wetter槽700L GL 1
・ハイスピードミキサー SUS304 1
・解砕機 SUS316L 1
・振動流動乾燥機 SUS304 1
・凍結乾燥機 1

  • 超低温反応槽、500L


  • クリーンルーム、クラス10万相当


  • カラム精製装置、600mmID×1,000mmL

その他 自社工場

商業生産品製造設備

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取扱事業部

  • ヘルスケア事業部 ファインテック部
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