機能性材料事業 半導体材料

概要

ARC®製品

1997年に米ブリューワーサイエンス社よりリソグラフィー用反射防止コーティング材(ARC®)のライセンスを受け、製造・販売を開始したことから半導体分野へ進出しました。現在は多層プロセス用材料や仮貼り合せ材などへの事業展開も図っています。
ARC®coatingは様々な線幅や用途に対応しており、現在アジアトップシェアを確保しています。半導体の微細化・高集積化進展に伴い、ARC®coatingや周辺材料の需要は増加し、事業規模の大幅な拡大につながっております。

 

主要製品

半導体用反射防止コーティング材(ARC®)
半導体リソグラフィー用に開発された反射防止コーティング材です。フォトレジストの下にコーティングすることにより、露光時に発生する様々なトラブルを解決します。i線用から最先端のArF用まで広範囲の線幅に対応する製品を揃え、半導体デバイスの技術革新に貢献しております。
*ARC®はBrewer Science, Inc.の登録商標です。

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