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リソグラフィー用反射防止コーティング材BARCを中心とし、多層プロセス用材料や仮貼り合わせ材などの周辺材料への事業展開を図っております。
半導体分野へは、1998年に米ブリューワーサイエンス社と提携、BARCの製造・販売を開始したことから展開が始まりました。当社のBARCは様々な線幅や用途に対応しており、現在アジアトップシェアを確保しています。半導体の微細化・高集積化進展に伴い、BARCや周辺材料の需要は増加し、事業規模の大幅な拡大につながっております。 |
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| [半導体用反射防止コーティング材（BARC）] |
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| 半導体リソグラフィー用に開発された反射防止コーティング材です。フォトレジストの下にコーティングすることにより、露光時に発生するさまざまなトラブルを解決します。ｉ線用から最先端のArF用まで広範囲の線幅に対応する製品を揃え、半導体デバイスの技術革新に貢献しております。 |
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 機能性材料事業部 半導体材料営業部 |
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